涂膠顯影設備是在光刻工序中和光刻機配套使用的機器，主要起到涂膠、烘烤和顯影的作用。涂膠顯影設備是集成電路生產(chǎn)過程中不可獲缺的設備，能夠直接影響到光刻工序中曝光圖案的形成。隨著近幾年半導體產(chǎn)業(yè)向國內轉移，我國晶圓產(chǎn)量攀升，涂膠顯影設備應用需求攀升，行業(yè)得到快速發(fā)展。
涂膠顯影設備主要應用在晶圓生產(chǎn)中的前道EUV光刻中，以及后道的封測和LED制造中，在晶圓生產(chǎn)中起到重要作用。在人工智能、電子設備等產(chǎn)業(yè)發(fā)展帶動下，全球半導體產(chǎn)業(yè)快速發(fā)展，涂膠顯影設備市場規(guī)模持續(xù)攀升，在2020年達到20億美元，其中前道市場規(guī)模高達19億美元。按照當前設備智能化發(fā)展趨勢，預計到2023年全球涂膠顯影設備市場規(guī)模達到26億美元，其中前道市場規(guī)模約為25億美元。
根據(jù)新思界產(chǎn)業(yè)研究中心發(fā)布的
《2021-2025年涂膠顯影設備行業(yè)深度市場調研及投資策略建議報告》顯示，隨著半導體產(chǎn)業(yè)向中國轉移，我國半導體產(chǎn)需持續(xù)持續(xù)攀升，帶動涂膠顯影設備行業(yè)快速發(fā)展。在2020年我國涂膠顯影設備市場規(guī)模約為8.5億美元，其中前道市場規(guī)模為7.6億美元。預計到2023年我國涂膠顯影設備市場規(guī)模約為11億美元，其中前道市場規(guī)模約為10億美元。由此看出，全球以及我國涂膠顯影設備市場需求主要受到EUV光刻發(fā)展帶動。
在全球市場中，涂膠顯影設備市場集中度較高，主要被日本東京電子、日本迪恩士、臺灣億力鑫、德國蘇斯微、韓國CND等企業(yè)占據(jù)，其中日本東京電子是絕對的龍頭企業(yè)，市場占比高達88%左右。當前國內涂膠顯影設備市場被外企占據(jù)，東京電子、日本迪恩士兩家企業(yè)市場占比高達96%，其中東京電子占比在90%左右。國內企業(yè)芯源微市場占比僅為4%。
在國內集成電路工藝中，芯源微電子是唯一一家定位于涂膠顯影設備領域的企業(yè)，經(jīng)過多年的研究，目前產(chǎn)品可用于后道封裝和LED制造，用于前道生產(chǎn)工藝的涂膠顯影設備也取得技術性突破，和長江存儲、中芯紹興等企業(yè)達成合作，將加快國產(chǎn)替代，預計未來芯源微電子市場占比將不斷增長。
新思界
產(chǎn)業(yè)分析人士表示，涂膠顯影設備在半導體生產(chǎn)中起到重要作用，在人工智能以及半導體產(chǎn)業(yè)向我國轉移的影響下，國內涂膠顯影設備應用需求持續(xù)攀升。涂膠顯影設備生產(chǎn)技術門檻較高，市場集中度較高，國內市場被外企占據(jù)，國產(chǎn)率較低。但隨著芯源微電子實現(xiàn)技術突破，生產(chǎn)的涂膠顯影設備能夠在前道和后道工藝中得到應用，將加速實現(xiàn)國產(chǎn)化。
