光刻是半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)的關(guān)鍵環(huán)節(jié)，光刻技術(shù)的高低對芯片性能優(yōu)劣有著直接影響作用。當(dāng)前在半導(dǎo)體制造關(guān)鍵技術(shù)不斷突破以及芯片微型化趨勢不斷攀升背景下，極紫外（EUV）光刻技術(shù)逐漸被用于半導(dǎo)體大規(guī)模生產(chǎn)領(lǐng)域，在5nm及以下工藝制程芯片生產(chǎn)中起著關(guān)鍵作用。
極紫外（EUV）光刻技術(shù)原理為利用電能轟擊靶材料產(chǎn)生等離子體，等離子體發(fā)EUV輻射經(jīng)過聚焦系統(tǒng)入射到光掩膜版上，再通過投影系統(tǒng)將光掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)印到產(chǎn)品基板上，從而完成半導(dǎo)體光刻環(huán)節(jié)。其中光掩膜版，又稱光罩，是指用于半導(dǎo)體曝光制程上的母版。
應(yīng)用于極紫外（EUV）光刻技術(shù)環(huán)節(jié)的光罩稱為EUV光罩。EUV光罩光刻圖案精細度較高，發(fā)生掩模污染的風(fēng)險也比較高，因此需要高度專業(yè)化的極紫外光光罩盒（EUV Pod）進行防護。極紫外光光罩盒是指用于儲存EUV光罩的防護裝置，一般采用雙光罩盒配置，主要起到避免光罩遭受外部微塵粒子及化學(xué)污染作用。
根據(jù)新思界產(chǎn)業(yè)研究中心發(fā)布的
《2023-2028年極紫外光光罩盒（EUV Pod）行業(yè)市場深度調(diào)研及投資前景預(yù)測分析報告》顯示，當(dāng)前在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)向中國轉(zhuǎn)移趨勢不斷加深以及國內(nèi)AI、5G、物聯(lián)網(wǎng)等新興高技術(shù)產(chǎn)業(yè)不斷崛起背景下，我國逐漸成為全球半導(dǎo)體主要生產(chǎn)與消費國。而極紫外光光罩盒作為先進制程半導(dǎo)體芯片制造環(huán)節(jié)的關(guān)鍵裝置，當(dāng)前在國內(nèi)芯片需求不斷升級背景下，其市場滲透率得以持續(xù)提升，行業(yè)展現(xiàn)出良好發(fā)展前景。
中國臺灣家登集團是目前全球極紫外光光罩盒市場主要供應(yīng)商，市占比接近80%，下游客戶群體覆蓋了臺積電、三星、英特爾、SK海力士等一線大廠。當(dāng)前家登集團極紫外光光罩盒產(chǎn)品技術(shù)已達國際領(lǐng)先水平，其新一代EUV極紫外光光罩傳送盒G/GP Type已獲ASML認證可用于NXE:3400B。但在2022年12月28日，根據(jù)臺媒報道，受國際形式影響，目前家登集團已暫停對部分中國大陸公司供貨。
新思界
行業(yè)分析人士表示，極紫外光光罩盒作為一類具有多個關(guān)鍵元件且高度專業(yè)化的設(shè)備，其技術(shù)含量較高，當(dāng)前國內(nèi)行業(yè)尚處初步發(fā)展階段，國產(chǎn)化程度較低。因此當(dāng)前家登集團極紫外光光罩盒產(chǎn)品的斷供對國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展有著較大影響，未來國內(nèi)大陸相關(guān)企業(yè)還需加快產(chǎn)品研發(fā)進程與技術(shù)研發(fā)力度，國內(nèi)極紫外光光罩盒市場國產(chǎn)替代空間巨大。
