按照技術原理不同，光刻設備主要包括直寫光刻設備以及掩模光刻設備兩種類型。直寫光刻設備，又稱無掩模光刻設備，指無需物理掩模版，采用逐點、逐線或逐面掃描曝光方式，將微圖形結構轉移到覆有感光材料基材表面的設備。直寫光刻設備具備靈活性高、運行成本低、適應復雜工藝等優勢，在印制電路板（PCB）、顯示面板、集成電路、光伏電池以及掩模版加工過程中應用較多。
近年來，國家對于光刻設備行業發展高度重視，已出臺多項相關政策，主要包括《制選業可靠性提升實施意見》、《首臺（套）重大技術裝備推廣應用指導目錄（2024年版）》、《關于推動未來產業創新發展的實施意見》等。未來隨著國家政策支持，直寫光刻設備作為光刻設備細分產品，行業發展速度有望加快。
直寫光刻設備主要包括離子束直寫光刻設備、電子束直寫光刻設備以及激光直寫光刻設備三種。離子束直寫光刻設備集成了選擇性沉積、物理刻蝕以及離子注入技術，在集成電路修復、微納器件原型開發過程中應用較多；電子束直寫光刻設備具備光刻分辨率高、運行成本低等優勢，為直寫光刻設備代表產品。
根據新思界產業研究中心發布的《
2025-2030年直寫光刻設備行業市場深度調研及投資前景預測分析報告》顯示，直寫光刻設備適用于眾多領域，主要包括印制電路板（PCB）、顯示面板、集成電路、光伏電池以及掩模版等。隨著全球半導體產業逐漸向我國大陸轉移，我國集成電路產量持續增長。據國家工信部統計數據顯示，2025年1-7月，我國集成電路產量達到2946億塊，同比增長10.4%。直寫光刻設備適用于芯片封裝環節，未來其市場需求將不斷增長。
全球直寫光刻設備市場主要參與者包括日本尼康公司（Nikon）、日本佳能公司（Canon）、荷蘭ASML公司等。在本土方面，芯碁微裝、蘇大維格、天津芯碩、新諾科技等為我國直寫光刻設備主要生產商。芯碁微裝已具備多種類型直寫光刻設備自主研發實力，占據我國乃至全球市場較大份額。
新思界
行業分析人士表示，直寫光刻設備作為一種半導體制造關鍵設備，應用前景廣闊，行業發展速度不斷加快。未來隨著技術進步以及市場需求持續增長，直寫光刻設備行業發展空間將得到進一步擴展。目前，我國已有多家企業布局直寫光刻設備行業研發及生產賽道，未來其市場國產化進程有望加快。
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