全球激光直寫光刻機(jī)市場(chǎng)維持增長(zhǎng) 我國(guó)行業(yè)高端化發(fā)展步伐加快

        根據(jù)輻射源不同，直寫光刻機(jī)分為光學(xué)直寫光刻機(jī)（如激光直寫光刻機(jī)）和帶電粒子直寫光刻機(jī)（電子束直寫光刻機(jī)、離子束直寫光刻機(jī)等）。激光直寫光刻機(jī)，是一種基于激光光源的無(wú)掩膜光刻設(shè)備，由激光器、顯示器、CCD攝像機(jī)、照明光源等部分組成。激光直寫光刻機(jī)具有高精度、高效率等特點(diǎn)，可用于印制電路板（PCB）、顯示面板、集成電路、太陽(yáng)能電池等的加工。

        激光直寫光刻機(jī)在電子、光伏、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域廣泛應(yīng)用。在電子領(lǐng)域中，激光直寫光刻機(jī)可用于制作集成電路器件原型、顯示面板所需精細(xì)圖形等；在光伏領(lǐng)域，激光直寫光刻機(jī)可用于太陽(yáng)能電池銅電鍍工藝中。

        根據(jù)新思界產(chǎn)業(yè)研究中心發(fā)布的《2025-2029年全球及中國(guó)激光直寫光刻機(jī)行業(yè)研究及十五五規(guī)劃分析報(bào)告》顯示，隨著技術(shù)進(jìn)步、下游行業(yè)持續(xù)發(fā)展，激光直寫光刻機(jī)市場(chǎng)維持增長(zhǎng)。2024年全球激光直寫光刻機(jī)市場(chǎng)規(guī)模約為9億元，預(yù)計(jì)2025-2031年期間其市場(chǎng)將繼續(xù)以5.3%年復(fù)合增長(zhǎng)率（CAGR）增長(zhǎng)。

        我國(guó)政府部門重視光刻設(shè)備行業(yè)發(fā)展，并出臺(tái)多項(xiàng)政策給予支持，例如，《貫徹實(shí)施〈國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化發(fā)展綱要〉行動(dòng)計(jì)劃（2024—2025年）》《首臺(tái)（套）重大技術(shù)裝備推廣應(yīng)用指導(dǎo)目錄（2024年版）》等。另外，近年來(lái)我國(guó)激光直寫光刻機(jī)相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)也在逐漸完善，具體包括團(tuán)體標(biāo)準(zhǔn)《數(shù)字化無(wú)掩模激光直寫光刻機(jī)（T/ZS 0344—2022）》《激光直寫光刻設(shè)備（T/SZBX 178—2024）》等。在此背景下，我國(guó)激光直寫光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展進(jìn)程進(jìn)一步加快。

        國(guó)外激光直寫光刻機(jī)生產(chǎn)企業(yè)包括ASML公司、Heidelberg、Nikon等。我國(guó)激光直寫光刻機(jī)研究、生產(chǎn)企業(yè)和機(jī)構(gòu)包括浙江大學(xué)、洪鐳光學(xué)、芯碁微裝、蘇大維格、無(wú)錫光刻電子、先地圖像等。浙江大學(xué)光電科學(xué)與工程學(xué)院團(tuán)隊(duì)研發(fā)的“超分辨并行激光直寫光刻技術(shù)與裝備”，榮獲2024年度中國(guó)光學(xué)學(xué)會(huì)科技創(chuàng)新獎(jiǎng)特等獎(jiǎng)——技術(shù)發(fā)明獎(jiǎng)。

        新思界行業(yè)分析人士表示，激光直寫光刻機(jī)是直寫光刻機(jī)行業(yè)細(xì)分產(chǎn)品，應(yīng)用前景廣闊。在政策大力支持、技術(shù)進(jìn)步、下游行業(yè)需求不斷增長(zhǎng)利好下，激光直寫光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展空間將進(jìn)一步得到拓展。目前，我國(guó)有多家企業(yè)和機(jī)構(gòu)加大對(duì)激光直寫光刻機(jī)研發(fā)力度，隨著技術(shù)持續(xù)取得突破，激光直寫光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展步伐進(jìn)一步加快，并朝著高端化方向穩(wěn)步發(fā)展。

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