步進掃描式光刻機，指集成了掃描投影光刻技術和分步重復光刻技術的光刻裝備。步進掃描式光刻機具備可實現動態掃描、可實時聚焦調節、曝光場大等優勢，主要應用于半導體制造工藝中。
步進掃描式光刻機通常由光源系統、精密運動與工件臺系統、光學投影系統以及對準與調焦調平系統構成。光源系統主要采用深紫外（DUV）光源，能夠提供曝光所需高能量光束；精密運動與工件臺系統包含掩模臺和硅片臺，能夠對晶圓進行測量和曝光；光學投影系統包含投影物鏡以及照明設備，對于成像質量起到重要作用。
近年來，隨著技術進步，我國步進掃描式光刻機組件市場參與者數量不斷增長。國科精密光學、科益虹源光電、華卓精科、茂萊光學等為我國步進掃描式光刻機組件主要生產商。未來隨著上游組件供應量增長，我國步進掃描式光刻機行業發展速度將有所加快。
根據新思界產業研究中心發布的《
2026-2031年步進掃描式光刻機行業市場深度調研及投資前景預測分析報告》顯示，步進掃描式光刻機主要應用于半導體制造工藝中。近年來，隨著全球半導體產業逐漸向我國大陸轉移，我國芯片產能持續擴張，產量不斷增長。據國家工信部統計數據顯示，2025年1-10月，我國芯片產量達到3866億塊，同比增長10.2%。未來隨著應用需求日益旺盛，步進掃描式光刻機行業發展將迎來機遇。
在行業發展初期，受技術壁壘高、生產成本高等因素限制，我國光刻機高度依賴進口。日本佳能株式會社（Canon）、日本尼康株式會社（Nikon）、荷蘭阿斯麥公司（ASML）等為全球知名光刻機制造商。
在本土方面，近年來，受國際貿易形勢影響，海外政府開始實行對華光刻機出口管制。在此背景下，我國光刻機市場國產化進程不斷加快。步進掃描式光刻機為我國自主研發的高端光刻裝備，上海微電子裝備股份有限公司為其代表企業。據中國政府購買服務信息平臺發布數據顯示，2025年12月25日，上海微電子中標國家科技部“zycgr22011903采購步進掃描式光刻機項目”，成交金額為10999.985萬元。
新思界
行業分析人士表示，作為一種高端光刻裝備，步進掃描式光刻機應用前景較好。未來隨著市場需求日益旺盛，我國步進掃描式光刻機行業發展空間將得到進一步擴展。目前，我國企業已具備步進掃描式光刻機自主研發及生產實力，未來其行業發展態勢將持續向好。
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