真空鍍膜是指在真空條件下，將金屬或非金屬材料蒸發或濺射鍍于基體表面形成薄膜的技術。真空鍍膜材料，是應用在真空鍍膜工藝中，蒸發、濺射、沉積在基體表面形成薄膜的各種材料。
真空鍍膜可以提升基體的物理性能、化學性能、使用壽命等，真空鍍膜材料、基體材料可選擇范圍寬，薄膜厚度可控制，膜層均勻度好、致密度好、與基體結合強度高，且鍍膜過程中對環境污染小，是一種先進的鍍膜工藝。根據新思界產業研究中心發布的
《2024-2028年真空鍍膜材料行業深度市場調研及投資策略建議報告》顯示，2018-2023年，我國真空鍍膜市場規模年復合增長率為10.8%，呈現持續快速增長態勢，利好真空鍍膜材料行業發展。
真空鍍膜材料包括金屬材料、合金材料、氧化物材料、氮化物材料、碳化物材料、復合材料等幾大類，細分產品例如鋁、鉻、銀、鈦鋁、鉻鎳、鋁硅銅、二氧化硅、氧化鋁、氧化鋯、氮化硅、碳化硼等。其中，銀導電導熱性好，可用于電子器件導電薄膜制備中，鉻鎳耐高溫耐腐蝕，可用于工作在復雜條件下的工業設備鍍膜中，氧化鋁導電且耐腐蝕，氧化鋯硬度高且耐熱，氮化鋁導熱且絕緣，性質各不相同。
真空鍍膜材料可以采用濺射鍍膜、蒸發鍍膜、離子鍍膜、物理氣相沉積鍍膜（PVD）、化學氣相沉積鍍膜（CVD）、原子層沉積鍍膜（ALD）、脈沖激光沉積鍍膜（PLD）等方法鍍于基體表面形成膜層，可以采用的基體材料包括塑料、薄膜、紙張、金屬、合金等，能夠提高基體的反射、防水、導電、絕緣、耐磨、耐高溫、耐腐蝕、抗氧化等性能以及表面質量。
新思界
行業分析人士表示，采用不同真空鍍膜材料，利用不同鍍膜工藝可以得到性能不同的鍍膜產品，下游應用領域存在一定差異。總的來看，真空鍍膜材料可以廣泛應用在電子、光學儀器、醫療器械、新能源、照明、汽車、機械設備、航天、珠寶首飾、包裝等眾多行業，例如在電子行業中可用作半導體器件、微電子器件、反射鏡面、絕緣保護涂層、高溫傳感器等制備領域，市場發展空間大。
我國最新《產業結構調整指導目錄（2024年本）》中，鼓勵類項目包括新能源、半導體照明、電子領域用連續性金屬卷材、真空鍍膜材料、高性能箔材，這將推動我國真空鍍膜材料行業規模不斷擴大、市場需求不斷增長。
