電子級三(二甲氨基)硅烷（TDMAS）主要用作有機硅源與前驅體材料 布局企業不斷增多

　　三(二甲氨基)硅烷，別名三(二甲胺基)硅烷，英文簡稱TDMAS，分子式為C6H19N3Si，分子量為161.321，外觀為無色液體狀，有毒性，密度0.838g/ml，沸點142℃，熔點-90℃，閃點25℃，易燃燒，存儲需密封并遠離火種、熱源。三(二甲氨基)硅烷主要應用在電子產業中，即電子級三(二甲氨基)硅烷。

 

　　根據新思界產業研究中心發布的《2025年中國電子級三（二甲氨基）硅烷（TDMAS）市場專項調研及企業“十五五規劃”建議報告》顯示，電子級三(二甲氨基)硅烷通常用作有機硅源、前驅體材料。電子級三(二甲氨基)硅烷具有良好的熔點與蒸氣壓范圍，且揮發性高、熱穩定性好、反應性高，可以利用原子層沉積（ALD）、化學氣相沉積（CVD）工藝來制備二氧化硅（SiO2）薄膜、氮化硅（Si3N4）薄膜，進而應用在半導體、鋰離子電池、太陽能電池、燃料電池等生產中。

 

　　在半導體領域，電子級三(二甲氨基)硅烷可用來制備柵極側墻隔離層、刻蝕停止層、擴散阻擋層、鈍化層等；在鋰離子電池中，電子級三(二甲氨基)硅烷可用來制備電極材料表面的超薄保護層、硅增強隔膜；在太陽能電池中，電子級三(二甲氨基)硅烷可利用原子層沉積法將二氧化硅、氮化硅沉積到二氧化鈦（TiO2）陽極或硅基體之上，作為鈍化層或者減反射膜；在燃料電池中，電子級三(二甲氨基)硅烷可用來制備電解質薄膜或保護層。

 

　　三(二甲氨基)硅烷的制備方法可以采用直接胺解法，以三氯硅烷、二甲胺為原料，在低溫條件下通過親和取代反應得到，具有工藝流程簡單、原料成本較低、適合規模化生產等優點，但反應條件控制要求高、副產物產生量大。電子級三(二甲氨基)硅烷制備可以高純度三氯硅烷、無水二甲胺為原料，嚴格控制反應條件，再經純化得到。

 

　　新思界行業分析人士表示，近年來，我國電子級三(二甲氨基)硅烷布局企業不斷增多。2025年8月，太和氣體（荊州）有限公司“高端電子化學品材料項目”環境影響報告書受理公告，項目總投資50000萬元，建設內容中包括產能20噸/年的電子級三(二甲氨基)硅烷生產線，產品純度99.999%。

 

　　2022年2月，洛陽中硅高科技有限公司、中國恩菲工程技術有限公司授權公告了“電子級三（二甲氨基）硅烷的合成裝置”專利，該專利裝置改變了反應原料種類和加料方式，并降低了反應溫度的波動性以及工藝成本。2023年1月，貴州威頓晶磷電子材料股份有限公司申請了“一種電子級三-二甲氨基-硅烷的制造裝置及制造方法”專利，該發明生產過程環保、原料種類簡單、產物純度高。

 

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