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          硅溶膠拋光液應用場景廣泛 市場空間將持續擴大

          2024-08-07 17:49      責任編輯:王昭    來源:www.heb-baidu.cn    點擊:
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          硅溶膠拋光液應用場景廣泛 市場空間將持續擴大

            硅溶膠拋光液又稱二氧化硅拋光液,是一種以高純度硅粉為原料,經特殊工藝生產的高純度低金屬離子型拋光產品。磨料是拋光液中最重要的組分,直接影響著拋光液的拋光效果和加工效率。作為軟性磨料,硅溶膠硬度比二氧化硅磨粒軟,在加工過程中不易被劃傷,且硅溶膠粒徑在納米級,比表面積大。

            硅溶膠是指納米級二氧化硅顆粒分散在水或有機溶劑中形成的膠體分散液。硅溶膠分為有機硅溶膠與無機硅溶膠兩大類,制備方法有硅粉水解法、溶膠凝膠法、離子交換法等,其中離子交換法是目前我國工業制備硅溶膠主流方式。硅溶膠在耐火材料、催化劑、涂料、造紙、電子、精密拋光等領域應用廣泛。

            二氧化硅是硅溶膠拋光液的重要組成部分,其粒徑、密度、分散性等因素影響著硅溶膠拋光液的性能。我國納米二氧化硅生產企業包括凌瑋科技、天一納米、鑫輝化工等,2023年市場規模達120億元以上。近年來,我國納米二氧化硅供應能力不斷提升,這為硅溶膠拋光液產業發展奠定了基礎。

            根據新思界產業研究中心發布的《2024-2029年中國硅溶膠拋光液行業市場深度調研及發展前景預測報告》顯示,硅溶膠拋光液具有表面損傷層小、拋光一致性好、流動性好等特點,目前其已成為主流拋光液之一,廣泛應用在單晶多晶硅片、化合物晶體、藍寶石、光學玻璃、金屬鏡面、精密光學器件、壓電晶體等材料的納米級高平坦化拋光中。

            化學機械拋光(CMP)是一種超精密的表面加工技術,能同時兼顧表面全局和局部平坦化。CMP拋光液是CMP技術的關鍵耗材,2023年我國CMP拋光液市場規模同比增長達30%以上,市場景氣度較高。作為主流CMP拋光液之一,硅溶膠拋光液市場空間也在不斷擴大。

            在全球市場上,硅溶膠拋光液供應商包括日本扶桑化學、美國卡博特公司、廣東惠爾特、山東安特納米、安集科技、福建三邦等。進口硅溶膠拋光液價格昂貴,我國企業主要憑借量大、價廉等優勢搶占硅溶膠拋光液市場。

            新思界行業分析人士表示,硅溶膠拋光液為主流CMP拋光液之一,隨著精密拋光需求釋放,硅溶膠拋光液市場空間將不斷擴大。目前我國已實現硅溶膠拋光液國產化生產,并在中低端領域擁有一定競爭優勢,但高端硅溶膠拋光液仍存在進口依賴,未來我國企業仍需加大技術和產品研發力度,推動高端硅溶膠拋光液國產化進程。

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