硅溶膠拋光液應(yīng)用場景廣泛 市場空間將持續(xù)擴(kuò)大

　　硅溶膠拋光液又稱二氧化硅拋光液，是一種以高純度硅粉為原料，經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的高純度低金屬離子型拋光產(chǎn)品。磨料是拋光液中最重要的組分，直接影響著拋光液的拋光效果和加工效率。作為軟性磨料，硅溶膠硬度比二氧化硅磨粒軟，在加工過程中不易被劃傷，且硅溶膠粒徑在納米級，比表面積大。

　　硅溶膠是指納米級二氧化硅顆粒分散在水或有機(jī)溶劑中形成的膠體分散液。硅溶膠分為有機(jī)硅溶膠與無機(jī)硅溶膠兩大類，制備方法有硅粉水解法、溶膠凝膠法、離子交換法等，其中離子交換法是目前我國工業(yè)制備硅溶膠主流方式。硅溶膠在耐火材料、催化劑、涂料、造紙、電子、精密拋光等領(lǐng)域應(yīng)用廣泛。

　　二氧化硅是硅溶膠拋光液的重要組成部分，其粒徑、密度、分散性等因素影響著硅溶膠拋光液的性能。我國納米二氧化硅生產(chǎn)企業(yè)包括凌瑋科技、天一納米、鑫輝化工等，2023年市場規(guī)模達(dá)120億元以上。近年來，我國納米二氧化硅供應(yīng)能力不斷提升，這為硅溶膠拋光液產(chǎn)業(yè)發(fā)展奠定了基礎(chǔ)。

　　根據(jù)新思界產(chǎn)業(yè)研究中心發(fā)布的《2024-2029年中國硅溶膠拋光液行業(yè)市場深度調(diào)研及發(fā)展前景預(yù)測報(bào)告》顯示，硅溶膠拋光液具有表面損傷層小、拋光一致性好、流動性好等特點(diǎn)，目前其已成為主流拋光液之一，廣泛應(yīng)用在單晶多晶硅片、化合物晶體、藍(lán)寶石、光學(xué)玻璃、金屬鏡面、精密光學(xué)器件、壓電晶體等材料的納米級高平坦化拋光中。

　　化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）是一種超精密的表面加工技術(shù)，能同時兼顧表面全局和局部平坦化。CMP拋光液是CMP技術(shù)的關(guān)鍵耗材，2023年我國CMP拋光液市場規(guī)模同比增長達(dá)30%以上，市場景氣度較高。作為主流CMP拋光液之一，硅溶膠拋光液市場空間也在不斷擴(kuò)大。

　　在全球市場上，硅溶膠拋光液供應(yīng)商包括日本扶桑化學(xué)、美國卡博特公司、廣東惠爾特、山東安特納米、安集科技、福建三邦等。進(jìn)口硅溶膠拋光液價格昂貴，我國企業(yè)主要憑借量大、價廉等優(yōu)勢搶占硅溶膠拋光液市場。

　　新思界行業(yè)分析人士表示，硅溶膠拋光液為主流CMP拋光液之一，隨著精密拋光需求釋放，硅溶膠拋光液市場空間將不斷擴(kuò)大。目前我國已實(shí)現(xiàn)硅溶膠拋光液國產(chǎn)化生產(chǎn)，并在中低端領(lǐng)域擁有一定競爭優(yōu)勢，但高端硅溶膠拋光液仍存在進(jìn)口依賴，未來我國企業(yè)仍需加大技術(shù)和產(chǎn)品研發(fā)力度，推動高端硅溶膠拋光液國產(chǎn)化進(jìn)程。

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