薄膜沉積設備，指在基板上沉積一層或多層薄膜材料的裝置。薄膜沉積設備具有成膜均勻性好、可在較低溫度下進行沉積操作、無需控制反應物流量均勻性、適用于不同形狀基底等特點，在光學涂層、顯示技術、半導體制造以及光伏電池等諸多領域應用廣泛。
按照工藝原理不同，薄膜沉積設備可分為原子層沉積（ALD）設備、化學氣相沉積（CVD）設備、離子體增強化學氣相沉積（PECVD）設備、次常壓化學氣相沉積（SACVD）設備、金屬有機化學氣相沉積（MOCVD）設備等多種類型。ALD設備具有反應區域溫度均勻性優良、能夠精確調節薄膜厚度等特點，屬于高性能薄膜沉積設備。未來伴隨技術進步，我國ALD設備市場占比有望提升，這將為薄膜沉積設備行業發展提供有利條件。
薄膜沉積設備在眾多領域應用廣泛，包括光學涂層、顯示技術、半導體制造以及光伏電池等，其中半導體制造領域為其主要需求端。近年來，隨著全球半導體產業向我國大陸轉移，我國晶圓產能不斷擴張。2023年我國晶圓月均產能達到近660萬片，同比增長近15%。薄膜沉積設備主要用于晶圓制造工藝中，可以制造晶圓表面絕緣層以及導電層等。
根據新思界產業研究中心發布的《
2024-2028年中國薄膜沉積設備市場行情監測及未來發展前景研究報告》顯示，受益于應用需求日益旺盛，我國薄膜沉積設備市場規模不斷增長。2023年我國薄膜沉積設備市場規模達到近95億美元，同比增長近15%。從細分產品來看，PECVD設備為我國薄膜沉積設備代表產品，市場占比達到近三成。未來隨著半導體制造業發展速度加快，我國薄膜沉積設備市場空間還將進一步擴展。
受市場前景吸引，我國已有多家企業布局薄膜沉積設備行業研發及生產賽道，主要包括拓荊科技、北方華創、微導納米、中微公司等。目前，我國企業集中于生產中低端薄膜沉積設備，ALD設備、MOCVD設備以及SACVD設備等高端產品則依賴進口，日本及美國為我國主要進口國。
新思界
行業分析人士表示，薄膜沉積設備作為半導體制造重要設備，應用需求旺盛，行業發展前景較好。未來隨著細分產品市場空間不斷擴展，我國薄膜沉積設備行業發展速度將有所加快。目前，我國已有多家企業具備薄膜沉積設備量產能力，未來具備高性能產品自主研發實力的企業將占據市場更大份額。
