濺射靶材是通過磁控濺射技術(shù)、多弧離子鍍膜或其他鍍膜技術(shù)，將一定形狀的靶材（如圓片、長方體等）置于真空室內(nèi)，通過高能離子的撞擊，靶材表面的原子或分子獲得足夠的能量并從表面脫離，最終沉積在基底材料上形成具有特殊功能的薄膜。根據(jù)成分的不同，濺射靶材可分為金屬靶材（如純金屬鋁、鈦、銅等）、合金靶材（如鉬鈮合金、鎳鉻合金等）以及陶瓷化合物靶材（如ITO等氧化物、氮化硅等）。
濺射靶材的應(yīng)用領(lǐng)域極為廣泛，涵蓋了半導(dǎo)體芯片制造、平面顯示器生產(chǎn)、太陽能電池制備、信息存儲(chǔ)介質(zhì)、工具改性以及電子器件制造等。在半導(dǎo)體芯片制造中，濺射靶材主要用于沉積導(dǎo)電、絕緣和屏蔽層，對(duì)制造高性能的集成電路至關(guān)重要。而在平面顯示器領(lǐng)域，濺射靶材則用于制備透明導(dǎo)電氧化物（TCO）薄膜，以提高顯示器的透光性和導(dǎo)電性。此外，濺射靶材還廣泛應(yīng)用于太陽能電池中的吸光層和導(dǎo)電層制備，以及信息存儲(chǔ)介質(zhì)中的磁記錄層制備等。
近年來，隨著全球電子信息產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，濺射靶材市場(chǎng)需求持續(xù)增長。特別是在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)，隨著制程技術(shù)的不斷進(jìn)步和芯片尺寸的不斷縮小，半導(dǎo)體行業(yè)內(nèi)對(duì)濺射靶材的純度和精度要求越來越高，推動(dòng)了全球?yàn)R射靶材市場(chǎng)的快速發(fā)展。
在中國市場(chǎng)，雖然濺射靶材行業(yè)起步晚，但是隨著國家對(duì)科技創(chuàng)新和產(chǎn)業(yè)升級(jí)的高度重視，以及電子信息產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，中國濺射靶材市場(chǎng)需求不斷增長。國內(nèi)濺射靶材企業(yè)通過積極引進(jìn)和消化吸收國外先進(jìn)技術(shù)，不斷提升自身技術(shù)水平和創(chuàng)新能力，逐步打破了國外技術(shù)壁壘，實(shí)現(xiàn)了部分濺射靶材的進(jìn)口替代。根據(jù)新思界產(chǎn)業(yè)研究中心發(fā)布的
《2024-2028年中國濺射靶材行業(yè)市場(chǎng)行情監(jiān)測(cè)及未來發(fā)展前景研究報(bào)告》顯示，目前，中國市場(chǎng)上濺射靶材國外品牌有東曹、霍尼韋爾、日礦金屬、普萊克斯等，國內(nèi)生產(chǎn)企業(yè)主要有研新材料股份有限公司、寧波江豐電子材料股份有限公司、隆華科技集團(tuán)（洛陽）股份有限公司等。
新思界
行業(yè)分析人士表示，未來，得益于智能手機(jī)、可穿戴設(shè)備、汽車電子以及5G和人工智能等新興技術(shù)的快速發(fā)展，這些領(lǐng)域?qū)Ω咝阅転R射靶材的需求日益增加，全球及中國濺射靶材市場(chǎng)將保持穩(wěn)定的增長態(tài)勢(shì)，半導(dǎo)體濺射靶材市場(chǎng)為主要增長點(diǎn)。
關(guān)鍵字：
