超高純鋁濺射靶材,又稱超純鋁濺射靶材,指以純度達(dá)99.9995%的高純鋁為基材,經(jīng)深加工制成的金屬濺射靶材。超純鋁濺射靶材具備導(dǎo)熱性好、導(dǎo)電性佳、密度高、純度高等優(yōu)勢(shì),在半導(dǎo)體芯片、光伏發(fā)電、顯示器件等領(lǐng)域擁有巨大應(yīng)用潛力。
超高純鋁濺射靶材以高純鋁為基材制成。高純鋁主要制備方法包括偏析法、三層法兩種。偏析法指以電解鋁液或金屬熔融鋁為原材料,經(jīng)加熱、冷卻、提純等流程制得產(chǎn)品,具有綠色環(huán)保、能耗低等優(yōu)勢(shì);三層法又稱三層液電解精煉法,具有成品質(zhì)量好、成品收率高等優(yōu)勢(shì),可用于制備超高純鋁,但其能耗較大。隨著技術(shù)進(jìn)步,我國(guó)高純鋁產(chǎn)量不斷增長(zhǎng),這將為超高純鋁濺射靶材行業(yè)發(fā)展奠定良好基礎(chǔ)。
根據(jù)新思界產(chǎn)業(yè)研究中心發(fā)布的《
2024-2029年中國(guó)超高純鋁濺射靶材行業(yè)市場(chǎng)深度調(diào)研及發(fā)展前景預(yù)測(cè)報(bào)告》顯示,超高純鋁濺射靶材在眾多領(lǐng)域擁有巨大應(yīng)用潛力,包括半導(dǎo)體芯片、光伏發(fā)電、顯示器件等。在半導(dǎo)體芯片領(lǐng)域,超高純鋁濺射靶材可用于制造模擬芯片、存儲(chǔ)芯片、微機(jī)械芯片以及邏輯芯片等。近年來(lái),全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)逐漸向我國(guó)大陸轉(zhuǎn)移,帶動(dòng)芯片產(chǎn)量不斷增長(zhǎng)。據(jù)國(guó)家工信部統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)顯示,2023年我國(guó)芯片產(chǎn)量達(dá)到3514億塊,同比增長(zhǎng)6.9%。超高純鋁濺射靶材為高端芯片重要基材,未來(lái)隨著下游行業(yè)發(fā)展速度加快,其市場(chǎng)空間將進(jìn)一步擴(kuò)展。
在行業(yè)發(fā)展初期,受技術(shù)壁壘高、生產(chǎn)成本高等因素限制,我國(guó)超高純鋁濺射靶材市場(chǎng)被海外企業(yè)占據(jù)主導(dǎo)。德國(guó)sindlhauser公司、挪威海德魯公司(Norsk Hydro A.S.)為全球超高純鋁濺射靶材代表企業(yè)。在本土方面,受益于國(guó)家政策支持以及技術(shù)進(jìn)步,我國(guó)超高純鋁濺射靶材市場(chǎng)國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程有所加快。新疆眾和股份有限公司、寧波江豐電子材料股份有限公司為我國(guó)超高純鋁濺射靶材代表企業(yè)。新疆眾和具備6N級(jí)高純鋁批量生產(chǎn)能力,其技術(shù)水平達(dá)到全球領(lǐng)先,目前產(chǎn)品已在半導(dǎo)體領(lǐng)域獲得應(yīng)用。
新思界
行業(yè)分析人士表示,超高純鋁濺射靶材作為一種超高純金屬濺射靶材,在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域需求旺盛。未來(lái)伴隨技術(shù)進(jìn)步,我國(guó)超高純鋁濺射靶材市場(chǎng)占比將進(jìn)一步提升。在市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)面,新疆眾和具備超高純鋁濺射靶材規(guī)模化生產(chǎn)能力,占據(jù)我國(guó)市場(chǎng)較大份額。
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