三甲基硅烷（3MS），化學式為C3H10Si，是一種有機硅化合物。三甲基硅烷外觀呈無色透明液體或無色氣體，含刺鼻氣味，可溶于二氯甲烷以及正庚烷等非極性溶劑，幾乎不溶于水。三甲基硅烷具備強堿性、易燃性、易揮發性以及極高反應活性，在新能源、半導體工業、有機合成等領域有所應用。
三甲基硅烷主要制備方法包括格氏試劑法、氫化鋁鋰還原法、縮合反應法等。縮合反應法具備反應條件溫和、成品質量好、生產效率高等優勢，為三甲基硅烷主流制備方法。近年來，隨著本土企業及相關科研機構持續發力，環保型工藝逐漸在三甲基硅烷制備過程中獲得應用。未來伴隨技術進步，我國三甲基硅烷產量及質量將得到進一步提升。
根據新思界產業研究中心發布的《
2025-2030年中國三甲基硅烷（3MS）行業市場深度調研及發展前景預測報告》顯示，三甲基硅烷適用范圍較廣，主要包括新能源、半導體工業、有機合成等。半導體領域為三甲基硅烷主要需求端，其作為硅源前驅體材料，可用于半導體PECVD工藝中，能夠制備碳化硅硬涂層、氧化硅介電層以及氮化硅屏障層等。未來隨著全球半導體產業向我國大陸轉移，三甲基硅烷應用需求將進一步增長。
我國三甲基硅烷主要生產商包括上海正帆科技股份有限公司、浙江中寧硅業股份有限公司、湖北成豐化工有限公司、山東中天科技有限公司等。正帆科技主營業務包括向泛半導體、生物制藥等，目前正在積極推進年產890噸電子先進材料及30萬立方電子級混合氣體項目建設，該項目擬生產的電子先進材料包括三甲基硅烷、亞磷酸三乙酯、硼酸三乙酯以及六氯乙硅烷等。
雖然三甲基硅烷應用前景廣闊，但其行業發展仍面臨一定挑戰。一方面，三甲基硅烷主要應用于半導體領域，對于純度要求較高，現有技術無法滿足超高純度產品生產需求；另一方面，三甲基硅烷存在易燃性及腐蝕性，在制備及存儲過程中極易造成環境污染。
新思界
行業分析人士表示，三甲基硅烷性能優異，作為一種電子材料，在半導體領域擁有廣闊應用前景。未來伴隨市場需求逐漸釋放，我國三甲基硅烷行業發展速度將進一步加快。目前，我國三甲基硅烷行業發展仍面臨一定挑戰，未來伴隨本土企業持續發力以及技術進步，高質量及綠色化將成為其行業發展主流趨勢。
