光酸（PGA）又稱光致產酸劑，主要用于在化學放大型體光刻膠中，包括KrF光刻膠（聚對羥基苯乙烯樹脂體系）和ArF光刻膠（聚甲基丙烯酸酯樹脂體系）、EUV光刻膠，常溫下為固態。
光酸（PAG）產品類型眾多，主要企業都開發了不同種類的產品，例如，東洋合成工業株式會社光酸（PAG）產品有TPS-TF、DTBPI-PFBS、TPS-CS、TPS-PFBS等多個種類；賀利氏（Heraeus）開發了一系列適用于i線、g線、ArF等光刻膠產品的光酸（PAG），包括NIT、NIN、ILP-110、ILP-118、PA-480、PA-411、PA-528等。
近些年，隨著供給側改革政策推進，半導體光刻膠的本土化發展勢在必行，良好的市場前景吸引了許多投資者及相關機構對半導體光刻膠產業鏈的密切關注，光酸（PAG）研究越來越受重視，相關專利不斷涌現，如蘇州瑞紅電子化學品有限公司公布”一種雜環多官光致產酸劑及其制備方法和制得的化學增幅型光刻膠“，該專利解決了傳統的光致產酸劑產酸效率低，光子利用率低的問題；寧波南大光電材料有限公司公布”可聚合型含雙鎓鹽結構的光致產酸劑、制備方法及光刻膠“，該專利適用于多種波長的光源。
近年來，國內光酸（PGA）投資項目增多，中節能萬潤、蘇州威邁正在緊鑼密鼓的推進光酸（PAG）項目建設。中節能萬潤目前已經完成了光酸（PAG）的開發，正在展開下游市場推廣；蘇州威邁韓國子公司具備光酸（PAG）生產能力，目前已經在國內完成了億元融資，計劃在合肥籌建量產工廠，隨著前者產品正式上市，以及后者實現本土化生產，中國光酸（PAG）行業企業將面臨更激烈市場競爭。
根據新思界產業研究中心發布的
《2025年全球及中國光酸（PAG）產業深度研究報告》顯示，全球光酸（PAG）市場具有高度壟斷性，由日本和美國企業主導，美國企業主要是賀利氏電子化學材料公司在美國俄亥俄州的生產基地；日本企業主要有東洋合成工業株式會社、FJIFILM和光純藥株式會社、San-Apro株式會社等。其中，東洋合成工業株式會社為全球最大的光酸（PAG）生產廠商，其憑借過去數十年來的技術積累和沉淀，已經構筑起較強的競爭優勢，占據60%以上的市場份額。
新思界
產業研究員認為，光酸（PAG）主要用于生產半導體光刻膠。雖然中國是半導體光刻膠需求大國，但國內半導體光刻膠研發時間短，國產化程度較低。蘇州晶瑞、北京科華等企業雖然實現了g線/i線光刻膠的量產，但在技術積累、產能建設、品牌形象等方面與國際領先企業均有較大差距，國產化率較低。未來隨著更多廠家KrF光刻膠、ArF光刻膠研發完畢順利完成客戶驗證后，國產半導體光刻膠國產替代加速推進，將為光酸（PAG）行業帶來極大的發展動力。
關鍵字：
