光刻膠稀釋劑，是一種光刻膠助劑，對于光刻工藝的分辨率和線寬精度起到重要作用。光刻膠稀釋劑對于純度、溶解性以及化學穩(wěn)定性有較高要求，在先進封裝、芯片制造、顯示面板制造等眾多領(lǐng)域需求旺盛。
光刻膠稀釋劑主要包括二縮三丙二醇二丙烯酸酯（TPGDA）、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯（TMPTA）、丙二醇甲醚醋酸酯（PGMEA）、N-甲基-2-吡咯烷酮（NMP）等。丙二醇甲醚醋酸酯具備揮發(fā)性高、表面張力低、雙鍵轉(zhuǎn)化率高、顯影性好等優(yōu)勢，為光刻膠稀釋劑代表產(chǎn)品。未來隨著技術(shù)進步，我國高性能丙二醇甲醚醋酸酯市場占比有望提升，這將為光刻膠稀釋劑行業(yè)發(fā)展提供有利條件。
國家對于光刻膠配套試劑行業(yè)發(fā)展高度重視，已出臺多項相關(guān)政策。2024年1月1日，由國家工信部發(fā)布的《重點新材料首批次應(yīng)用示范指導(dǎo)目錄（2024年版）》正式實施，文件明確將剝離液、稀釋劑、蝕刻液等集成電路用光刻膠配套試劑納入先進半導(dǎo)體材料目錄。受益于國家政策支持，我國光刻膠稀釋劑行業(yè)發(fā)展速度有望加快。
根據(jù)新思界產(chǎn)業(yè)研究中心發(fā)布的《
2025-2030年中國光刻膠稀釋劑行業(yè)市場深度調(diào)研及發(fā)展前景預(yù)測報告》顯示，光刻膠稀釋劑在眾多領(lǐng)域需求旺盛，主要包括先進封裝、芯片制造、顯示面板制造等。近年來，受益于國家政策支持以及技術(shù)進步，我國半導(dǎo)體以及顯示面板行業(yè)發(fā)展速度加快，帶動光刻膠應(yīng)用需求不斷增長。2024年我國光刻膠市場規(guī)模達到近120億元，其中集成電路用光刻膠市場規(guī)模達到近70億元。隨著下游行業(yè)景氣度提升，光刻膠稀釋劑市場空間有望擴展。
全球光刻膠稀釋劑主要生產(chǎn)企業(yè)包括美國杜邦、美國陶氏、韓國株式會社東進世美肯等。在本土方面，容大感光、上海新陽、怡達股份、廣信材料等為我國光刻膠稀釋劑市場主要參與者。與海外發(fā)達國家相比，我國光刻膠稀釋劑行業(yè)起步較晚，目前以實驗室研發(fā)為主。
新思界
行業(yè)分析人士表示，光刻膠稀釋劑作為光刻膠配套試劑，應(yīng)用需求旺盛，行業(yè)發(fā)展速度不斷加快。在行業(yè)發(fā)展初期，受技術(shù)壁壘高、生產(chǎn)成本高等因素限制，我國光刻膠稀釋劑高度依賴進口。未來隨著本土企業(yè)持續(xù)發(fā)力以及技術(shù)進步，我國光刻膠稀釋劑市場國產(chǎn)化進程有望加快。
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