液態鎵離子源是一種液態金屬離子源（LMIS），可產生鎵離子束。
離子源是用于生成轟擊樣品離子流的裝置，分為液態金屬離子源、雙等離子體離子源、氣態場發射離子源、電子轟擊離子源等類型，其中液態金屬離子源是最常用的離子源，原理是容器中的金屬被加熱成液態后，液體在發射針尖的發射端電離形成離子束發射。
根據使用金屬不同，液態金屬離子源分為液態鎵離子源、液態銅離子源、液體鋁離子源等多種類型。鎵具有低熔點、低蒸汽壓、抗化學腐蝕性優異、高表面張力、電氣穩定性高、發射期間能量擴散小等特點，是液態金屬離子源的理想材料。
液態鎵離子源能夠產生高亮度、高精度鎵離子束，廣泛應用在聚焦離子束（FlB）系統中。FlB系統是材料科學、高精度加工、微電子器件制造領域不可或缺的工具，2024年全球FlB系統市場規模達6.6億美元，市場集中在歐美地區，生產廠商主要包括美國FEI（現屬賽默飛世爾）、日本Hitachi High-Technologies（日立集團下屬）、卡爾·蔡司集團等。
近年來，隨著半導體、微納加工等領域發展，我國FlB系統應用需求不斷釋放。但我國FlB系統研究起步較晚，高端市場嚴重依賴進口。根據新思界產業研究中心發布的《
2025-2029年中國液態鎵離子源行業市場供需現狀及發展趨勢預測報告》顯示，離子源是FlB系統的關鍵部件，直接影響著FlB系統的技術指標和性能，液態鎵離子源是FlB系統應用最廣泛的離子源，占比達80%以上，FlB系統國產化發展，需優先解決液態鎵離子源國產化問題。
液態鎵離子源精度要求嚴格、研發難度大，我國主要研制企業包括大束科技（北京）有限責任公司、納斯凱半導體科技有限公司等。大束科技成立于2018年，成功研制了熱場發射電子源、液態鎵離子源等產品，在多家客戶的裝機測試中，其自研液態鎵離子源顯示出與進口產品相當的性能和壽命。目前大束科技可穩定批量生產液態鎵離子源，憑借高性價比、反應速度快、可定制化生產等優勢，大束科技正加速推進液態鎵離子源及FlB系統國產化進程。
新思界
行業分析人士表示，液態鎵離子源是FlB系統中應用最廣泛的液態金屬離子源，隨著FlB系統在半導體、微納加工等領域應用，液態鎵離子源市場空間將不斷擴大。近年來，我國逐漸實現了液態鎵離子源國產化研制，進一步增強了FlB系統行業自主創新能力和國際競爭力。
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