化學氣相沉積設備，又稱CVD設備，指通過化學反應在基體表面沉積高性能超薄固體材料的設備。CVD設備需具備臺階覆蓋性佳、高效節能、復雜表面適應性強、成分調控靈活、工藝兼容性強等特點，在光電器件、集成電路、功率器件、新能源、精密加工等領域應用較多。
CVD設備主要包括等離子體增強化學氣相沉積設備（PECVD）、常壓化學氣相沉積設備（APCVD）、低真空化學氣相沉積設備（LPCVD）、金屬有機化學氣相沉積設備（MOCVD）等。MOCVD設備通常利用三甲基鎵（TMGa）、三甲基銦（TMIn）等有機金屬前驅與氨氣反應，進而制得沉積層，在LED、化合物半導體制造過程中應用較多。
根據新思界產業研究中心發布的《
2025年中國化學氣相沉積設備（CVD設備）市場專項調研及企業“十五五規劃”建議報告》顯示，CVD設備用途廣泛。在光電器件領域，CVD設備可用于光電探測器元件的制造過程中，還可用于制造OLED顯示面板、LED芯片；在集成電路領域，其可用于集成電路柵極氧化層、互連阻擋層制備過程中，該領域為其最大需求端；在功率器件領域，其可用于制造氮化鎵、碳化硅等寬禁帶半導體功率器件；在新能源領域，其可用于制備太陽能電池電極材料。
近年來，國家對于半導體設備行業發展高度重視，已出臺多項相關政策，主要包括《制造業可靠性提升實施意見》、《國家支持發展的重大技術裝備和產品目錄（2025年版）》、《貫徹實施<國家標準化發展綱要>行動計劃（2024一2025年）》、《關于推動未來產業創新發展的實施意見》等。未來伴隨國家政策支持，CVD設備作為半導體設備，行業發展速度將進一步加快。
我國CVD設備市場主要參與者包括沃爾德、微導納米、拓荊科技、盛美上海、江豐電子、北方華創等。拓荊科技專注于高端半導體專用設備的研發、生產和銷售，其CVD設備代表產品包括SACVD、HDPCVD、PECVD、ALD及Flowable CVD設備等。據拓荊科技企業年報顯示，2024年公司半導體專用設備實現營收39.6億元。
新思界
行業分析人士表示，CVD設備在眾多領域應用廣泛，未來伴隨市場需求逐漸釋放，其行業發展態勢將持續向好。在市場競爭方面，我國已有多家企業布局CVD設備行業研發及生產賽道，預計未來一段時間，具備高端產品生產實力的企業將占據市場更大空間。
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