高純砷是指純度不小于99.999%（5N）、99.9999%（6N）、99.99999%（7N）及以上的砷，其中7N高純砷總雜質含量≤0.1ppm。
高純砷是以工業砷為原料，經升華、氯化、精餾、氫還原等加工提純后制成的，制備方法分為升華蒸餾法、氯化還原法、硫化還原法、鉛熔池升華法、砷化氫熱分解法等。砷俗稱砒，是一種具有金屬性的非金屬元素，有灰砷、黑砷、黃砷三種同素異形體形式，全球砷資源主要集中在美國、加拿大、智利、墨西哥等國家中。
根據新思界產業研究中心發布的
《2025-2030年中國高純砷行業市場深度調研及發展前景預測報告》顯示，相比于工業砷，高純砷具有雜質含量少、化學純度高、物理化學性能強等特點。高純砷可以制造激光器件、微波器件、紅外線發射管等，在半導體、5G通訊、信息顯示、航空航天、新能源、軍事、雷達等領域發揮著重要作用。
高純砷是制造砷化鎵（GaAs）、砷化銦（InAs）、砷化鎘、砷化鍺、砷化鈮等半導體材料的前驅材料。高純砷主要用于合成砷化鎵，近年來，隨著半導體行業發展，砷化鎵市場需求不斷釋放，進而帶動了高純砷市場發展。
在國際市場上，高純砷生產企業包括日本古河電子、德國因普洛依莎格等。預計2025-2030年，全球高純砷市場規模將保持增長，并于2030年達到50億美元，在預期內，我國高純砷市場增速將高于全球平均水平。
我國高純砷生產企業包括峨眉山嘉美高純材料有限公司、獻縣紅星電子材料有限公司、國投金城冶金有限責任公司、廣東先導微電子科技有限公司、洛寧中天利新材料有限公司等。由于砷有毒，高純砷生產易造成環境污染，近年來，隨著環保要求趨嚴，高純砷企業環保壓力有所增加。
目前全球高純砷企業以生產6N純度砷為主，僅有部分企業具備7N、7.5N及以上純度高純砷的技術能力。我國行業標準YS/T43-2011《高純砷》處于修訂中，其代替標準2024-0218T-YS《高純砷》將于2025年發布。
新思界
行業分析人士表示，高純砷是制備砷化鎵、砷化銦等半導體材料的原料，在半導體、5G通訊、新能源等領域具有廣泛應用。近年來，我國逐漸突破了高純砷生產技術，目前已可以生產6N、7N純度的高純砷，但7N高純砷生產規模較小。隨著技術突破、布局企業增加，高純砷市場競爭也在不斷加劇。
