四（乙基甲基氨基）鉿，又稱四乙基甲基氨基鉿，簡稱TEMAHf，是一種金屬鉿系前驅體，可與其他共反應物沉積氧化物、氮化物、硫化物等薄膜，在存儲器件、光學涂層、功率器件等領域具有廣闊應用前景。
四（乙基甲基氨基）鉿是原子層沉積（ALD）、化學氣相沉積（CVD）工藝生長氮化鉿（HfN）或氧化鉿（HfO₂）的關鍵原材料。
前驅體材料分為硅、金屬、High-k、Low-k材料等類別。在減薄至2nm以下時，傳統二氧化硅（SiO2）柵介質層容易引發量子隧穿效應，導致漏電流激增和功耗失控，High-k材料（高介電常數材料）的介電常數顯著高于傳統二氧化硅，可在相同電容下增加物理厚度，從而抑制漏電流并提升器件可靠性。近年來，隨著芯片制程進入納米級，High-k材料應用需求釋放。氧化鉿具有高k值、熱穩定性良好，是High-k材料主流選擇。
根據新思界產業研究中心發布的
《2025-2029中國四（乙基甲基氨基）鉿（TEMAHf）行業市場現狀綜合研究及投資前景預測報告》顯示，原子層沉積（ALD）是制備High-k薄膜的核心技術，四（乙基甲基氨基）鉿作為ALD氧化鉿合成關鍵材料，隨著氧化鉿在邏輯器件柵介質、DRAM電容等場景廣泛應用，其市場需求不斷釋放。
現有合成方法得到的四（乙基甲基氨基）鉿純度普遍較低，目前電子級四（乙基甲基氨基）鉿市場需求仍依賴進口，供應商包括德國默克集團、法國法國液化空氣集團（Air Liquide）等。高端前驅體依賴進口，已成為制約我國集成電路行業發展的“卡脖子”問題，為打破技術壟斷，我國開展了一系列高端前驅體產業化關鍵技術研發，以實現鉿系、鈷系、硅系、鉭系等高端前驅體產品產業化能力，這為電子級四（乙基甲基氨基）鉿國產化奠定了基礎。
目前我國電子級四（乙基甲基氨基）鉿技術或產品布局企業包括合肥安德科銘半導體科技有限公司、銅陵正帆電子材料有限公司（正帆科技全資子公司）、太和氣體（荊州）有限公司等。
新思界
行業分析人士表示，前驅體材料是半導體薄膜沉積、外延生長、蝕刻、清洗、摻雜等工藝的核心材料，市場呈高增長態勢，2025-2030年我國半導體前驅體市場規模將從146億元增長至300億元。半導體前驅體市場集中度較高，我國國產替代空間大，四（乙基甲基氨基）鉿作為鉿前驅體之一，市場存在較大開發空間。
關鍵字：
