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          光刻膠剝離液應用前景廣闊 我國市場參與者眾多

          2025-10-28 17:03      責任編輯:楊光    來源:www.heb-baidu.cn    點擊:
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                  光刻膠剝離液,又稱去膠劑,指能夠去除曝光顯影后殘留在基板上光刻膠的化學材料。光刻膠剝離液需具備綠色環保、剝離性強、安全可靠性高、工藝兼容性強等特點,在顯示面板以及集成電路制造過程中擁有廣闊應用前景。

                  按照主要成分不同,光刻膠剝離液可分為堿性水溶型剝離液以及有機溶劑型剝離液兩種類型。有機溶劑型剝離液可細分為二甲基亞砜(DMSO)、N-甲基吡咯烷酮(NMP)、N-甲基甲酰胺(NMF)等。NMP具備溶解性好、剝離效率高、毒性低、對基片損傷小等優勢,為光刻膠剝離液代表產品;NMF主要應用于顯示面板光刻膠去除過程中。

                  根據新思界產業研究中心發布的《2025-2030年中國光刻膠剝離液行業市場深度調研及發展前景預測報告》顯示,光刻膠剝離液作為一種電子化學品,在顯示面板以及集成電路制造過程中擁有廣闊應用前景。在顯示面板領域,光刻膠剝離液可用于去除顯示面板曝光后的光刻膠殘留。近年來,隨著全球顯示面板產業逐漸向我國大陸轉移,我國LCD顯示面板以及OLED顯示面板產能持續擴張。以OLED顯示面板為例,2024年我國產能占據全球總產能近五成。未來隨著市場需求逐漸釋放,我國光刻膠剝離液行業發展速度將進一步加快。

                  全球光刻膠剝離液主要生產企業包括日本長瀨產業株式會社(Nagase)、日本富士膠片控股株式會社(FUJIFILM)、日本東京應化工業株式會社(TOK)、韓國株式會社東進世美肯(DONGJIN SEMICHEM)、美國Avantor公司、美國杜邦公司(DuPont)、美國Futurrex公司等。日本富士膠片具備光刻膠剝離液、顯影液等光刻膠配套試劑自主研發及生產實力,產品已在正性和負性光刻膠去除過程中獲得廣泛應用。

                  在本土方面,我國光刻膠剝離液市場主要參與者包括興欣新材、澄星股份、飛凱材料、格林達、聯卓電子、瑞眾新材等。飛凱材料專注于屏幕顯示材料、半導體材料的研發、生產和銷售,其推出的光刻膠剝離液已在半導體先進制程中獲得應用。

                  新思界行業分析人士表示,光刻膠剝離液作為光刻膠配套試劑,應用前景廣闊,行業發展速度不斷加快。未來隨著市場需求日益旺盛,我國光刻膠剝離液行業發展空間將進一步擴展。隨著技術成熟度提升,我國光刻膠剝離液市場參與者數量不斷增長,未來具備高端產品生產實力的企業將成為行業龍頭。
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