光刻膠增粘劑，又稱光刻膠助粘劑，指能夠提升光刻膠與基底之間粘附力的化學助劑。光刻膠增粘劑需具備工藝兼容性好、綠色環保、化學穩定性佳、耐高/低溫等特點，在半導體制造、微電子封裝以及光電器件制造等領域應用較多。
六甲基二硅氮烷（HMDS）為光刻膠增粘劑主要原材料。六甲基二硅氮烷是一種有機硅化合物，具備反應活性高、耐腐蝕等特點，可通過三甲基氯硅烷合成法以及六甲基二硅氧烷合成法制得。目前，我國已有多家企業具備六甲基二硅氮烷規模化生產實力，這將為光刻膠增粘劑行業發展提供有利條件。
光刻膠增粘劑為光刻膠配套助劑，在眾多領域應用廣泛，包括半導體制造、微電子封裝以及光電器件制造等。在半導體制造領域，光刻膠增粘劑可用于集成電路制造過程中，能夠防止因刻蝕造成的膠層脫落問題。近年來，伴隨全球半導體產業逐漸向我國大陸轉移，我國集成電路產量不斷增長。據國家工信部統計數據顯示，2025年1-10月，我國集成電路產量達到3866億塊，同比增長10.2%。未來隨著下游行業發展速度加快，我國光刻膠增粘劑將迎來廣闊市場前景。
根據新思界產業研究中心發布的《
2026-2030年中國光刻膠增粘劑市場行情監測及未來發展前景研究報告》顯示，在全球方面，隨著應用需求日益旺盛，光刻膠增粘劑行業發展態勢持續向好。2024年全球光刻膠增粘劑市場規模達到近1.5億美元，同比增長近10%。未來隨著技術進步，光刻膠增粘劑市場空間還將進一步擴展。預計到2030年，全球光刻膠增粘劑市場規模將突破2.5億美元。
全球光刻膠增粘劑主要生產企業包括日本東京應化、日本JSR、日本信越化學、美國陶氏、美國杜邦等。在本土方面，我國光刻膠增粘劑市場參與者包括藍星集團、新亞強等。與海外發達國家相比，我國光刻膠增粘劑行業起步較晚，高端產品市場占比較低。未來隨著本土企業持續發力，我國光刻膠增粘劑行業將逐漸往高質量方向發展。
新思界
行業分析人士表示，作為光刻膠配套試劑，光刻膠增粘劑性能優異，應用前景較好。未來隨著市場需求逐漸釋放，光刻膠增粘劑行業發展速度將進一步加快。目前，我國光刻膠增粘劑生產企業較少，需求高度依賴進口。未來伴隨技術水平提升，我國光刻膠增粘劑產量將進一步增長。
關鍵字：
