碳化硅是第三代半導體材料，具有化學性能穩定、耐磨、禁帶寬度大、導熱性能好、熱膨脹系數小等特點，可用于制備短波發光二極管、紫外探測器、抗輻照半導體器件等。碳化硅拋光液，是一種用于碳化硅材料表面拋光的物質，通常由磨料、氧化劑、其他功能添加劑等組分組成，其中常用的磨料為氧化鋁、氧化鋯、碳化硅等，氧化劑為硫酸鹽、雙氧水、過硼酸鹽、高錳酸鹽等。
拋光液是一種不含任何硫、磷、氯添加劑的水溶性拋光劑，具有去油污、防銹、增光等性能，主要在半導體、LED領域應用。根據主要成分不同，拋光液包括金剛石拋光液（多晶金剛石拋光液、單晶金剛石拋光液和納米金剛石拋光液）、氧化硅CMP拋光液、氧化鈰拋光液、氧化鋁拋光液、碳化硅拋光液等。碳化硅拋光液具有拋光表面質量好、去除效率高、易清洗等特點，可有效提高碳化硅襯底表面質量，進而提高半導體器件性能。
根據新思界產業研究中心發布的
《2025-2029年全球及中國碳化硅拋光液行業研究及十五五規劃分析報告》顯示，隨著半導體行業快速發展，碳化硅拋光液市場規模也在逐漸擴大。預計2031年全球碳化硅拋光液市場規模將達到19億元，2025-2031年期間其市場將以20%年復合增長率（CAGR）增長。
隨著研究逐漸深入，我國碳化硅拋光液制備工藝在不斷改進，相關專利數量也在增長，2020年來包括“納米氧化鋁磨粒、制備方法、應用和含該磨粒的碳化硅拋光液”、“一種碳化硅拋光液及其應用”、“一種碳化硅CMP精拋拋光液及其制備方法”、“一種碳化硅晶圓拋光液”等。
國外碳化硅拋光液生產企業包括CMC Materials、Saint-Gobain、Fujimi Corporation等。我國碳化硅拋光液生產企業包括上海新安納電子科技有限公司、寧波日晟新材料有限公司、北京國瑞升科技股份有限公司等。
寧波日晟新材料有限公司“碳化硅拋光液”，入選《2025年度浙江省擬認定首批次新材料清單》。上海新安納電子科技有限公司“碳化硅晶圓拋光液系列產品”，可應用于不同尺寸高純半絕緣體4H-SiC、N型4H-SiC等晶圓拋光。
新思界
行業分析人士表示，受益于企業和相關科研機構研發持續深入，我國碳化硅拋光液行業生產水平不斷提升。隨著半導體行業快速發展，碳化硅拋光液市場需求空間較為廣闊。我國已有少數企業具備碳化硅拋光液研發、量產實力，受此利好，碳化硅拋光液行業發展進程進一步加快。
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