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          薄膜沉積設備國產率極低 國內企業提升空間大

          2021-12-09 18:04      責任編輯:王昭    來源:www.heb-baidu.cn    點擊:
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          薄膜沉積設備國產率極低 國內企業提升空間大

            薄膜沉積設備是薄膜沉積工藝過程中的專用設備,其具有價值量高、需求占比大、研制難度大等特點。國內薄膜沉積設備生產企業主要包括北方華創、沈陽拓荊、捷佳偉創、無錫微導等企業,其中北方華創、沈陽拓荊兩家企業技術較為先進,目前正在研發7/5nm制程技術。

            薄膜沉積是半導體加工、制造中重要的一項技術,按照原理不同,薄膜沉積主要分為物理式真空鍍膜(PVD)、化學式真空鍍膜(CVD)、原子層沉積(ALD)等三種,其中原子層沉積為目前最為先進的薄膜沉積技術。

            近年來,隨著半導體產業的發展,半導體設備市場需求不斷釋放,發展到2020年,全球半導體設備市場規模達到680億美元左右。半導體設備產業屬于技術密集型、資本密集型和人才密集型產業,受技術、資金以及研發水平等因素限制,目前半導體設備市場呈現出寡頭壟斷格局,其中日美企業占據市場主要份額。薄膜沉積設備作為半導體核心設備之一,全球市場也由日美企業占據主導。

            根據新思界產業研究中心發布的《2021-2025年中國薄膜沉積設備行業市場行情監測及未來發展前景研究報告》顯示,現階段,全球薄膜沉積設備市場規模在150億美元左右。近年來,在科技技術進步、政府扶持力度加大的驅動下,我國薄膜沉積設備行業取得較大成就,但由于國內企業在技術方面仍舊落后于國際企業,目前我國薄膜沉積設備國產化率極低,在3%左右。

            在全球薄膜沉積設備市場上,日本、美國企業合計市場占比在75%左右,其中CVD市場主要供應商為美國應用材料、東京電子、泛林半導體等;PVD市場供應商包括應用材料、Evatec、日本愛發科等;ALD市場供應商包括東京電子、半導體材料等。目前日美企業的薄膜沉積設備已到達5nm制程水平,處于全球領先地位。

            近年來,隨著全球產業向東轉移,我國集成電路、液晶顯示、光伏、機床等產業發展迅速,進而帶動薄膜沉積設備需求持續攀升,未來我國或將成為全球薄膜沉積設備市場中增速最快的國家之一,薄膜沉積設備國產替代空間廣闊。

            新思界行業分析人士表示,受益于半導體、液晶顯示等產業的快速發展,薄膜沉積設備市場需求不斷釋放,但受技術限制,目前我國薄膜沉積設備國產率極低,市場需求主要依賴進口,不利于行業長遠可持續發展。在未來市場發展中,我國薄膜沉積設備仍需不斷提升研發創新能力,早日實現薄膜沉積設備國產替代。

          關鍵字: 半導體 薄膜沉積設備

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