光刻機，又名掩模對準曝光機，是指采用類似照片沖印技術，把掩膜版上精細圖形通過光線曝光印制到硅片上的設備。光刻設備是大規模生產集成電路的核心設備，在掩模版制造、芯片制造與封裝環節均有應用。根據工作原理不同，光刻機可分為直寫光刻機與掩模光刻機。其中直寫光刻機是指采用基于空間光調制器的數字掩模代替傳統光刻的物理掩膜，無需物理掩膜就可以直接描繪光刻膠圖形的設備。
直寫光刻技術無需掩模版，具有制程短、成本低、壽命長、功耗低、功率高、分辨率高等特點，在板級封裝、高端PCB制造以及OLED、MiniLED、MicroLED、曲面顯示面板制造等領域應用較為廣泛。根據新思界產業研究中心發布的
《2022-2027年直寫光刻設備行業市場深度調研及投資前景預測分析報告》顯示，近年來，在全球半導體產業向中國大陸轉移趨勢不斷攀升以及國內政策大力支持半導體產業發展背景下，我國半導體設備行業快速發展、國產化與高端化水平不斷提升，直寫光刻設備作為半導體設備的重要組成部分，其市場需求不斷增加。
直寫光刻設備屬于技術密集型行業，技術壁壘較高，我國該行業起步時間較晚，目前國內市場仍由國際領先企業占據主要市場份額，主要企業為ASML阿斯麥、佳能Canon、尼康Nikon等。但近年來，在國內半導體設備國產替代進程不斷加快以及PCB、泛半導體領域快速發展背景下，本土光刻設備龍頭企業逐漸崛起，在直寫光刻設備領域實現了關鍵技術突破、開啟了國產替代進程。
當前，本土企業芯碁微裝已實現晶圓級封裝直寫光刻設備的產業化，且已突破應用于IC封裝載板以及高端HDI板領域直寫光刻設備的關鍵技術，2022年9月芯碁微裝擬定增募資8.25億元用于直寫光刻設備產業應用深化拓展項目。除此之外，國內布局直寫光刻機領域企業還有新諾科技、蘇大維格等，未來隨著本土企業研發進程不斷加快，國產直寫光刻設備品牌將具備與國際領先品牌抗衡能力，國產化進程將不斷加快。
新思界
產業分析人員表示，近年來，在集成電路朝多層板、HDI板、IC載板等方向不斷發展背景下，中高端PCB產品需求朝更精細線寬、更高分辨率與曝光精度等方面不斷升級，直寫光刻設備正憑借其特有優勢成為集成電路生產企業首要選擇，市場需求不斷增加，行業發展前景較好。未來在本土企業不斷提升技術水平與加大研發能力背景下，國內直寫光刻設備行業發展潛力巨大。
