磁控濺射設備主要應用在薄膜制備領域，具有低溫、高速、低損傷、易于控制、附著力強等優點。磁控濺射是物理氣相沉積（PVD）技術的一種，起步于上世紀70年代，憑借高速、低溫、環保、成膜速率高等特點，磁控濺射技術應用領域日益擴展，磁控濺射設備需求隨之釋放。
根據電源和基片位置不同，磁控濺射設備可分為直流濺射設備和射頻濺射設備兩種。磁控濺射設備可用于制備金屬、半導體、絕緣體、復合銅箔等材料，在集成電路、光電子器件、超導體、通信、太陽能電池、平板顯示等領域應用前景廣闊。隨著相關技術進步、需求升級，磁控濺射設備將向著高精度、智能化、高效率方向升級。
復合銅箔是極具潛力的復合集流體材料，近年來，隨著鋰電池安全性、能量密度要求不斷提升，復合銅箔產業化進程加快，預計2023年將實現量產。復合銅箔工藝涉及到磁控濺射技術、水電鍍技術、超聲波焊接技術等，隨著復合銅箔生產規模擴大，復合銅箔用磁控濺射設備市場需求將進一步釋放。
根據新思界產業研究中心發布的《
2022-2026年中國磁控濺射設備行業市場行情監測及未來發展前景研究報告》顯示，我國磁控濺射設備研發起步晚、技術較落后，高端產品需求主要依賴進口。在國際矛盾日益加劇背景下，國內企業及高校難以獲得高精度進口設備，不僅制約了集成電路產業發展，還不利于國家信息安全，因此高精度磁控濺射設備國產替代需求迫求。
磁控濺射設備在電子制造領域占據重要地位，市場發展空間廣闊，全球布局企業在不斷增加。但由于磁控濺射設備研發壁壘高，在全球市場上，美日歐企業占據市場主要地位，包括美國應材、日本發那科、德國萊寶、日本三井金屬、日本東曹等。在國內，磁控濺射設備供應商主要有振華科技、沈陽鴻晟恒業、騰勝科技、匯成真空、無錫光潤、宏大真空、東威科技等。
新思界
行業分析人士表示，磁控濺射設備主要用于薄膜制造，終端應用場景廣泛，受益于復合銅箔產業化進程加快，磁控濺射設備市場發展空間廣闊。我國磁控濺射設備技術水平較低，高端產品需求仍依賴進口，但隨著本土企業研發創新能力提升，高精度磁控濺射設備國產化步伐將加快。
