碳化硅陶瓷真空吸盤是新一代高性能真空吸盤之一，可以廣泛應用在礦山、冶金、化工、制藥、玻璃陶瓷、光伏、光學儀器、電子、半導體等領域，能夠滿足礦山等行業的抗磨損需求，冶金等行業的高溫需求，化工等行業的抗腐蝕需求，以及半導體、電子等行業的精密加工與裝配需求。
真空吸盤是一種重要的吸附工具，可以應用在固定、搬運、裝配等場景。傳統真空吸盤的耐磨損性、耐高溫性、耐腐蝕性存在一定局限，金屬吸盤還存在不防靜電的缺點，在部分領域應用受到限制。
碳化硅陶瓷真空吸盤采用多孔陶瓷，是碳化硅高溫燒蝕得到的多孔且孔徑均勻的陶瓷材料，經研磨拋光后表面質量高，可以應用在半導體領域，用于硅晶圓、藍寶石晶圓、砷化鎵晶圓等制造領域，使用時給予負壓，將晶圓穩固吸附于真空吸盤上，作為加持、承載工具，實現減薄、切割、清洗等操作。
碳化硅陶瓷真空吸盤的孔洞直徑細小，不會對晶圓表面造成劃傷；碳化硅陶瓷具有電阻率高、絕緣性好的特點，制造真空吸盤可防止靜電損壞晶圓；碳化硅陶瓷真空吸盤結構致密、強度大、耐磨損，不易產生破裂、碎片等問題；碳化硅陶瓷不易變形，真空吸盤可重復使用，使用壽命長。
根據新思界產業研究中心發布的
《2024-2029年中國光刻機用碳化硅陶瓷真空吸盤行業市場深度調研及發展前景預測報告》顯示，光刻機零部件中包括多種陶瓷部件，例如工件臺、方鏡、真空吸盤、水冷盤等。碳化硅陶瓷可經過精密加工用來制造這些陶瓷部件，成為理想選擇材料之一。但燒結結構致密、大尺寸的碳化硅陶瓷難度較高，并且碳化硅陶瓷硬度大、脆性大，精密加工難度大，因此光刻機用碳化硅陶瓷真空吸盤僅有日本京瓷Kyocera、美國CoorsTek等少數企業可以生產。
我國半導體產業規模龐大，根據工信部公布數據顯示，2023年，我國集成電路產量為3514億塊，同比增長6.9%。光刻是半導體芯片最關鍵的工藝環節，光刻機不可或缺。在國際政治形勢多變背景下，為避免被卡脖子，我國光刻機自主研發生產步伐正在加速，光刻機用碳化硅陶瓷真空吸盤開發應用潛力大。
新思界
行業分析人士表示，我國最新版《產業結構調整指導目錄（2024年本）》中，將面向新一代光刻機用碳化硅陶瓷水冷真空吸盤（浸沒式）制備關鍵技術研發與應用列為鼓勵類項目。總的來看，我國碳化硅陶瓷真空吸盤行業發展前景良好，特別是應用在光刻機領域的高端產品發展前景廣闊。目前，我國光刻機用碳化硅陶瓷真空吸盤研發生產商主要有中國建筑材料科學研究總院、寧波伏爾肯科技股份有限公司等。
