等離子體刻蝕機，指基于干法刻蝕工藝，利用等離子體選擇性去除基材表面特定材料，進而創建精細電路圖案的設備。等離子體刻蝕機具備材料適應性強、可精確控制刻蝕速率、各向異性刻蝕能力強等特點，在光學器件、半導體、生物醫學、微機械加工等眾多領域擁有巨大應用潛力。
近年來，我國等離子體刻蝕機研發熱情持續高漲，帶動其相關專利數量不斷增加，主要包括《一種等離子刻蝕機刻蝕腔及等離子體刻蝕機》、《一種電極組件及等離子體刻蝕機》、《刻蝕室及感應耦合等離子體刻蝕機》、《一種具備環保廢氣處理功能的等離子體刻蝕機》、《一種半導體反應腔室及原子層等離子體刻蝕機》等。未來隨著研究深入、技術進步，我國等離子體刻蝕機行業發展速度有望加快。
電感耦合等離子體刻蝕機（ICP）為等離子體刻蝕機代表產品。電感耦合等離子體刻蝕機可通過產生射頻能量，激發氣體并產生等離子體，進而實現刻蝕工藝，具備加工速度快、控制精度高、安全可靠性高等優勢，可用于刻蝕較軟或較薄材料。未來隨著電感耦合等離子體刻蝕機應用需求增長，等離子體刻蝕機行業景氣度將得到進一步提升。
根據新思界產業研究中心發布的《
2025年中國等離子體刻蝕機市場專項調研及企業“十五五規劃”建議報告》顯示，等離子體刻蝕機在眾多領域擁有巨大應用潛力。在光學器件領域，等離子體刻蝕機可對微透鏡陣列、光柵等光學器件表面進行精細處理；在半導體領域，其可用于存儲器件、功率半導體以及邏輯芯片制造過程中；在微機械加工領域，其可用于MEMS器件制造過程中。未來隨著市場需求逐漸釋放，等離子體刻蝕機行業發展空間將得到進一步擴展。
全球等離子體刻蝕機市場主要參與者包括美國泛林集團（LAM）、美國應用材料公司（Applied Materials）等。在本土方面，我國等離子體刻蝕機主要生產企業包括中微公司、北方華創等。中微公司專注于半導體設備的研發、生產及銷售，其5nm等離子體刻蝕機已成功通過臺積電驗證。
新思界
行業分析人士表示，等離子體刻蝕機在眾多領域擁有潛在應用價值，未來隨著我國半導體行業發展速度加快，其市場空間將得到進一步擴展。近年來，我國企業不斷加大對于等離子體刻蝕機的研發投入力度，未來隨著技術進步，其行業發展態勢將持續向好。
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