干膜光刻膠技術(shù)壁壘較高 我國(guó)需求對(duì)外依賴度大

　　PCB光刻膠是光刻膠的一種，應(yīng)用在PCB（印制電路板）制造中，產(chǎn)品主要包括干膜光刻膠、濕膜光刻膠、光成像阻焊油墨三大類。與半導(dǎo)體光刻膠、面板光刻膠相比，PCB光刻膠技術(shù)壁壘較低，在其三種細(xì)分產(chǎn)品中，干膜光刻膠技術(shù)含量相對(duì)較高。

 

　　干膜光刻膠產(chǎn)品為固態(tài)，是將預(yù)配的液態(tài)光刻膠涂布到載體薄膜上（可采用聚酯PET薄膜），經(jīng)處理得到的固態(tài)光刻膠薄膜，應(yīng)用時(shí)直接將干膜光刻膠貼附到待加工覆銅板上，通過(guò)曝光顯影將掩膜板上的電路圖形復(fù)制到干膜光刻膠上，干膜光刻膠對(duì)覆銅板進(jìn)行蝕刻從而制得PCB。干膜光刻膠成本較高，但不會(huì)浸沒(méi)覆銅板上的孔洞，后期加工與清理更為便捷，在特定應(yīng)用場(chǎng)景中應(yīng)用比例高。

 

　　干膜光刻膠主要由樹(shù)脂、光引發(fā)劑、單體、溶劑等構(gòu)成，這些組分的性能與配比直接影響干膜光刻膠性能。樹(shù)脂的功能主要是將各組分粘結(jié)成膜，需要具有優(yōu)良的粘附性、抗腐蝕性、耐高低溫性以及易清除等特點(diǎn)；光引發(fā)劑吸收光能量產(chǎn)生光化學(xué)反應(yīng)從而完成光刻，直接決定了干膜光刻膠的感光速度、曝光時(shí)間、固化性能等；單體的功能是調(diào)節(jié)光引發(fā)劑的光化學(xué)反應(yīng)；溶劑的作用是將各組分融合在一起，以及作為光化學(xué)反應(yīng)介質(zhì)。

 

　　根據(jù)新思界產(chǎn)業(yè)研究中心發(fā)布的《2022-2026年干膜光刻膠行業(yè)深度市場(chǎng)調(diào)研及投資策略建議報(bào)告》顯示，2021年，全球干膜光刻膠市場(chǎng)規(guī)模約為59億元，預(yù)計(jì)到2026將達(dá)到70億元以上，年均復(fù)合增長(zhǎng)率為3.5%。由于技術(shù)難度較低，在我國(guó)光刻膠市場(chǎng)中，PCB光刻膠規(guī)模占比達(dá)到90%以上；在我國(guó)PCB光刻膠市場(chǎng)中，濕膜光刻膠、光成像阻焊油墨是主要產(chǎn)品類型，干膜光刻膠技術(shù)壁壘相對(duì)較高，生產(chǎn)企業(yè)數(shù)量較少，年產(chǎn)量較小。

 

　　在全球范圍內(nèi)，干膜光刻膠生產(chǎn)企業(yè)主要有日本旭化成、日本日立、中國(guó)臺(tái)灣長(zhǎng)興化學(xué)、美國(guó)杜邦、韓國(guó)科隆等，其中前三家企業(yè)合計(jì)市場(chǎng)占有率達(dá)到82%。我國(guó)PCB光刻膠企業(yè)以濕膜光刻膠、光成像阻焊油墨生產(chǎn)為主，有少數(shù)企業(yè)可以生產(chǎn)干膜光刻膠，但主要是中低端產(chǎn)品，且產(chǎn)能少，因此市場(chǎng)份額占比小。

 

　　新思界行業(yè)分析人士表示，我國(guó)干膜光刻膠需求對(duì)外依賴度大，主要進(jìn)口自日本、美國(guó)、中國(guó)臺(tái)灣地區(qū)，進(jìn)口依賴度達(dá)到90%以上，特別是高端產(chǎn)品完全依靠進(jìn)口。我國(guó)少數(shù)具有干膜光刻膠生產(chǎn)能力的企業(yè)主要是北京科華、晶瑞電材等，除此之外，容大感光、能動(dòng)科技等企業(yè)也在加快干膜光刻膠布局步伐，未來(lái)國(guó)內(nèi)產(chǎn)能有望不斷擴(kuò)大。

 

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