三甲基鎵，簡稱TMG，是一種分子式為C3H9Ga的化學物質，外觀呈無色透明液體狀，有毒，在空氣中易氧化，在室溫自燃，與水激烈反應生成Me2GaOH和[(Me2Ga)2O]X。
三甲基鎵生產方法多樣，主要有鎵鎂合金鹵代烷法，是指以高純鎵鎂合金、醚類溶劑為原料，在充滿氬氣等惰性氣體合成釜反應器中，通過加入鹵代烷、減壓、蒸餾、分離等環節生成三甲基鎵的方法；甲基鋁和鹵代烷合成法，是指以鹵代烷與三甲基鋁為原料，在惰性溶液中進行合成反應生成三甲基鎵的方法。
根據新思界產業研究中心發布的
《2023-2028年三甲基鎵行業深度市場調研及投資策略建議報告》顯示，三甲基鎵應用領域廣泛，可作為MO源產品用于MOCVD金屬有機化學氣相沉積、MOMBE金屬有機分子束外延工藝之中；可用于高氮化鎵、砷化鎵、砷鎵鋁以及電子遷移率晶體管、太陽能電池、傳感器、LED照明、液晶顯示、集成電路等半導體材料與設備生產場景；可作為催化劑用于烯烴聚合反應、加成反應中；可用于癌癥治療藥物生產場景，市場需求空間較為廣闊。
目前我國已有江蘇南大光電材料股份、蘇州普耀光電材料、廣東先導稀材股份、大連科利德半導體材料等企業入局三甲基鎵生產領域，國產化水平正不斷提升。三甲基鎵屬于一類技術密集型行業，受技術限制，本土企業在產品質量、純度、生產工藝、成本方面與阿克蘇諾貝爾、默克、陶氏等國際領先企業相比還有較大差距，未來本土企業仍需持續優化生產工藝，行業成長空間巨大。
南大光電是我國三甲基鎵行業領先企業，公司三甲基鎵產品純度可達6N級別及以上，相關合成、純化、分析、封裝等技術已達國際領先水平。未來在領先企業不斷發揮引領帶動作用下，我國三甲基鎵行業發展趨勢向好。
新思界
行業分析人士表示，三甲基鎵是MO源產品中應用最廣泛的一類，在半導體材料與設備制造中發揮著重要作用。近年來，在國內半導體產業蓬勃發展背景下，三甲基鎵需求不斷增加，行業展現出良好發展前景。三甲基鎵屬于技術密集型行業，高純度三甲基鎵技術壁壘較高，目前國內生產企業數量較少，產量較低，未來本土企業還需持續優化生產工藝與加大高端產品研發力度，促進行業快速發展。
