光刻膠又稱光致抗蝕劑，能夠對光或其他形式的輻射產生敏感反應，經紫外光、離子束的照射或輻射后溶解度會發生變化，是將光刻工藝所需要的微細圖形從掩模版轉移到待加工基片上的圖形轉移介質。
光刻膠產業鏈上游為溶劑、光引發劑、光刻膠樹脂等原材料的供應；中游為PCB光刻膠、半導體光刻膠、LCD光刻膠等細分產品的生產制作；下游廣泛應用于集成電路、顯示面板、半導體分立器件、印刷電路板等的生產加工。
在科技強國建設不斷推進，高新技術產業規模持續擴張的背景下，近年來國家及各地政府出臺《“十四五”數字經濟發展規劃》、《深圳市培育發展半導體與集成電路產業集群行動計劃（2022-2025年）》、《關于推動能源電子產業發展的指導意見》等多項政策鼓勵支持半導體、集成電路等產業發展，光刻膠市場需求將持續釋放。
據新思界產業研究中心發布的
《2024-2029年光刻膠行業市場深度調研及投資前景預測分析報告》顯示，隨著物聯網、人工智能等技術不斷進步，消費電子、智能汽車等產業不斷發展，我國半導體產業鏈不斷完善，關鍵設備及材料供應能力不斷提升，光刻膠作為光刻工藝中的關鍵材料，市場規模不斷增長。2018年我國光刻膠市場規模約為63億元，2023年市場規模約為110億元，2018-2023年復合年增長率約為12%。
光刻膠屬于技術密集型產業，具有較高進入門檻。美國、日本等國家光刻膠行業起步早，在研發實力、產品質量等方面具有較強競爭優勢，在高端市場中處于壟斷地位，代表性企業有美國陶氏化學、日本住友化學等。受技術、經驗等限制，我國光刻膠主要集中在中低端市場，PCB光刻膠占比超過93%，高端市場對進口產品依賴性強，國產替代空間大。
新思界
行業分析人士表示，隨著國際貿易形勢愈加復雜，出口管制及經濟制裁風險不斷增加，市場對國產關鍵材料的需求將不斷增長，光刻膠具有廣闊發展空間。在產業轉型升級步伐逐步加快，政策支持力度不斷加大的背景下，國內企業在光刻膠領域的研發投入不斷增加，技術專利申請數量不斷增長，高端產品研發應用進程不斷加快，行業呈現良好發展態勢。現階段我國光刻膠研發生產企業有江蘇南大光電材料股份有限公司、晶瑞電子材料股份有限公司、東陽華芯電子材料有限公司等。
