三氟化氮（NF3）是一種含氟特種氣體，也是目前電子特氣中用量最大的品種之一，具有常溫下化學惰性、高溫下性質活潑、易于處理、反應速度快等特點。
三氟化氮可以用作等離子蝕刻氣體、反應腔清洗劑、高能化學激光器的氟源等，適用于半導體芯片、顯示面板、光纖、太陽能電池、金屬加工等領域。作為等離子蝕刻氣體，三氟化氮尤其適用于厚度小于1.5um集成電路材料的蝕刻。隨著電子工業大規模發展，三氟化氮市場需求將不斷增加。
三氟化氮工業化生產路線主要有化學合成法、電解法兩種，其中化學合成法具有設備復雜、雜質含量多、安全性高等特點，電解法主要是電解熔融NH4F·xHF，具有成品收率高、技術成熟度高、容易污染環境等特點。
根據新思界產業研究中心發布的
《2025-2029年三氟化氮（NF3）行業深度市場調研及投資策略建議報告》顯示，作為半導體制造中用量最大的電子特氣，三氟化氮市場呈全球化競爭態勢，在國際市場上，三氟化氮主要生產廠商包括韓國SK Specialty、韓國曉星、日本關東電化、德國默克、日本三井化學等，國外企業以電解法為主，其中韓國SK Specialty是全球最大的三氟化氮供應商，年產能達1.3萬噸以上。
我國涉及三氟化氮業務的企業包括中船特氣、南大光電、昊華科技、廣鋼氣體、凱美特氣等。國產三氟化氮在技術純度方面與進口產品尚存在一定差距，其中中船特氣三氟化氮、六氟化鎢生產能力位居國內首位，三氟化氮產品純度可達5N級（99.999%）。
目前全球高純度三氟化氮尚存在供給缺口，尤其是5N-6N級三氟化氮。2025年8月，日本關東電化澀川工廠發生爆炸，短期內三氟化氮產能將無法恢復生產，日本三井化學三氟化氮產能計劃于2026年退出市場。日本關東電化產能受限+日本三井化學退出，將進一步加大高純度三氟化氮供給缺口。
目前國內多家三氟化氮企業有擴產計劃，如中船特氣計劃在2026年新增3000噸產能，貴州泉鑫化學科技有限公司年產3880噸電子特氣建設項目于2025年7月份開工，建成后年產三氟化氮3200噸。
新思界
行業分析人士表示，三氟化氮是半導體制造中用量最大的電子特氣，市場需求旺盛。近年來，受益于國家政策支持、技術進步，我國企業在高純度三氟化氮領域持續突破，目前我國企業已具備三氟化氮供給缺口填補能力，隨著產能擴張、客戶認證持續推進，國產三氟化氮有望加速切入全球供應鏈。
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