空白掩模版又稱光罩基板、掩膜基板，是制造掩膜版（光罩）的初始材料，也是光刻工藝中的圖形轉移載體，直接影響光刻精度及產品良率。
空白掩模版是在樹脂或超純石英玻璃等基底材料上通過精密拋光、鍍膜和勻膠后的產品。根據國家統計局數據顯示，2025年上半年，我國集成電路產量為2395億塊，同比增長8.7%。掩膜版是半導體芯片行業中第三大半導體晶圓制造材料，隨著集成電路產量穩步增長，掩膜版市場規模持續擴大，空白掩模版位于掩膜版產業鏈上游，市場需求隨之釋放。
根據新思界產業研究中心發布的
《2025年中國空白掩模版市場專項調研及企業“十五五規劃”建議報告》顯示，2024年全球空白掩模版市場規模超過35.0億美元，我國空白掩膜版市場需求規模約14.5億美元。近年來，在國產替代背景下，我國掩膜版國產化率正逐步提升，但在空白掩膜版上，目前國產化率仍較低。
全球范圍內，空白掩膜版供應商主要集中在日本、韓國、中國臺灣等地區，包括日本信越化學、韓國KTG、日本豪雅（HOYA）等。我國所需空白掩模版進口依賴度高，尤其是中高端空白掩模版，如EUV空白掩膜版。
我國空白掩模版相關企業包括成都中科卓爾智能科技集團有限公司、安徽禾臣新材料有限公司等。中科卓爾由中科院光電所團隊組建，其空白掩模版已通過路維光電、龍圖光罩和國內多家下游企業驗證；禾臣新材料致力于G6尺寸及以下空白掩膜版的研發與生產，G6代產品已獲得清溢光電、路維光電等客戶的認可并批量導入。
近年來，由于EUV（極紫外）光刻機采購量、應用量增長，EUV掩模版占比正快速提升，進而帶動了EUV空白掩膜版市場需求釋放。EUV空白掩膜版為反射型設計，在玻璃基板上交替沉積數層鉬（Mo）和硅（Si）制成，與傳統深紫外（DUV）空白掩膜版（透射型）在結構、原理上存在較大差異。
EUV空白掩膜版售價高，目前三星電子的EUV空白掩膜大部分依賴從日本HOYO進口。韓國S&STech的EUV空白掩膜版國產化工作已取得重大突破，為保障供應鏈安全，三星電子正優先推進通過韓國S&STech實現EUV空白掩膜版國產化供應。
新思界
行業分析人士表示，空白掩模版位于掩模版產業鏈上游，我國半導體產業起步較晚、基礎薄弱，目前空白掩模版的開發和量產應用仍面臨著制約因素，包括核心設備供應、先進工藝開發等多個方面。近年來，我國掩模版國產化率逐漸提升，EUV掩模版已進入量產階段，EUV空白掩膜版市場需求將大幅增長。
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