空白掩模版又稱光罩基板、掩膜基板，是制造掩膜版（光罩）的初始材料，也是光刻工藝中的圖形轉(zhuǎn)移載體，直接影響光刻精度及產(chǎn)品良率。
空白掩模版是在樹脂或超純石英玻璃等基底材料上通過精密拋光、鍍膜和勻膠后的產(chǎn)品。根據(jù)國家統(tǒng)計(jì)局?jǐn)?shù)據(jù)顯示，2025年上半年，我國集成電路產(chǎn)量為2395億塊，同比增長8.7%。掩膜版是半導(dǎo)體芯片行業(yè)中第三大半導(dǎo)體晶圓制造材料，隨著集成電路產(chǎn)量穩(wěn)步增長，掩膜版市場規(guī)模持續(xù)擴(kuò)大，空白掩模版位于掩膜版產(chǎn)業(yè)鏈上游，市場需求隨之釋放。
根據(jù)新思界產(chǎn)業(yè)研究中心發(fā)布的
《2025年中國空白掩模版市場專項(xiàng)調(diào)研及企業(yè)“十五五規(guī)劃”建議報(bào)告》顯示，2024年全球空白掩模版市場規(guī)模超過35.0億美元，我國空白掩膜版市場需求規(guī)模約14.5億美元。近年來，在國產(chǎn)替代背景下，我國掩膜版國產(chǎn)化率正逐步提升，但在空白掩膜版上，目前國產(chǎn)化率仍較低。
全球范圍內(nèi)，空白掩膜版供應(yīng)商主要集中在日本、韓國、中國臺灣等地區(qū)，包括日本信越化學(xué)、韓國KTG、日本豪雅（HOYA）等。我國所需空白掩模版進(jìn)口依賴度高，尤其是中高端空白掩模版，如EUV空白掩膜版。
我國空白掩模版相關(guān)企業(yè)包括成都中科卓爾智能科技集團(tuán)有限公司、安徽禾臣新材料有限公司等。中科卓爾由中科院光電所團(tuán)隊(duì)組建，其空白掩模版已通過路維光電、龍圖光罩和國內(nèi)多家下游企業(yè)驗(yàn)證；禾臣新材料致力于G6尺寸及以下空白掩膜版的研發(fā)與生產(chǎn)，G6代產(chǎn)品已獲得清溢光電、路維光電等客戶的認(rèn)可并批量導(dǎo)入。
近年來，由于EUV（極紫外）光刻機(jī)采購量、應(yīng)用量增長，EUV掩模版占比正快速提升，進(jìn)而帶動(dòng)了EUV空白掩膜版市場需求釋放。EUV空白掩膜版為反射型設(shè)計(jì)，在玻璃基板上交替沉積數(shù)層鉬（Mo）和硅（Si）制成，與傳統(tǒng)深紫外（DUV）空白掩膜版（透射型）在結(jié)構(gòu)、原理上存在較大差異。
EUV空白掩膜版售價(jià)高，目前三星電子的EUV空白掩膜大部分依賴從日本HOYO進(jìn)口。韓國S&STech的EUV空白掩膜版國產(chǎn)化工作已取得重大突破，為保障供應(yīng)鏈安全，三星電子正優(yōu)先推進(jìn)通過韓國S&STech實(shí)現(xiàn)EUV空白掩膜版國產(chǎn)化供應(yīng)。
新思界
行業(yè)分析人士表示，空白掩模版位于掩模版產(chǎn)業(yè)鏈上游，我國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)起步較晚、基礎(chǔ)薄弱，目前空白掩模版的開發(fā)和量產(chǎn)應(yīng)用仍面臨著制約因素，包括核心設(shè)備供應(yīng)、先進(jìn)工藝開發(fā)等多個(gè)方面。近年來，我國掩模版國產(chǎn)化率逐漸提升，EUV掩模版已進(jìn)入量產(chǎn)階段，EUV空白掩膜版市場需求將大幅增長。
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