四(二甲胺基)鉿，也稱四(二甲氨基)鉿、四(二甲基氨基)鉿，英文簡稱TDMAH或TDMAHf，分子式C8H24HfN4，分子量354.793，CAS號19782-68-4，外觀為無色至淡黃色結晶固體狀，對眼睛、皮膚有腐蝕性，密度1.098g/mL，熔點26-29℃，沸點60℃，閃點43℃，易燃燒，遇水劇烈反應釋放出易燃氣體，存儲需密封并遠離火種、熱源。
根據新思界產業研究中心發布的
《2025年中國四（二甲胺基）鉿（TDMAH）市場專項調研及企業“十五五規劃”建議報告》顯示，四(二甲胺基)鉿是一種鉿基薄膜前驅體材料，可以利用化學氣相沉積法（CVD）、原子層沉積法（ALD）在基底材料上沉積得到二氧化鉿薄膜、氮化鉿薄膜，也可以與其他前驅體材料配合使用，在襯底上沉積得到稀土摻雜氧化鉿薄膜，例如Ce:HfO2薄膜，進而能夠應用在半導體、存儲器、功率器件等制備領域，還可以應用在光學涂層、納米復合材料等制備方面。
鉿基薄膜具有高介電常數特點，可以制備得到厚度更薄的膜層，作為晶體管柵極介電層材料使用時，能夠避免傳統硅基薄膜介電層因過薄而導致的柵極直接隧穿漏電問題，可以滿足小尺寸晶體管制造需求，進而滿足芯片行業技術發展要求。在芯片性能不斷提高、尺寸不斷縮小背景下，四(二甲胺基)鉿作為鉿基薄膜前驅體材料，在替代傳統硅基薄膜前驅體材料方面發展前景廣闊。
在我國，四(二甲胺基)鉿制備方法相關專利申請數量不斷增多，主要有南京大學“四(二甲胺基)鉿的合成方法”，浙江博瑞電子科技有限公司“一種四(二甲氨基)鉿的制備方法”與“一種四(二甲氨基)鉿的精制方法”，合肥安德科銘半導體科技有限公司“一種四(二甲胺基)鉿的制備方法”等。
其中，浙江博瑞電子科技有限公司“一種四(二甲氨基)鉿的制備方法”專利，是在有機溶劑存在下，在正丁基鋰提供的堿性環境中，以二甲基胺、四氯化鉿為原料，添加催化劑進行脫酸反應，制備得到四(二甲氨基)鉿，具有方法簡單、原料利用率高、反應速度快、收率高、產物純度高等特點。
新思界
行業分析人士表示，我國四(二甲胺基)鉿市場布局企業主要有南京大學材料MO源研究開發中心、江蘇南大光電材料股份有限公司、合肥安德科銘半導體科技有限公司等。2025年5月，江西華特電子化學品有限公司華特電子永修半導體新材料中試基地項目環境影響報告書擬批準公示，一期建設項目中包括四(二甲氨基)鉿生產線。我國四(二甲胺基)鉿生產能力還在不斷提升。
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